和记H88

化合物表延设备引领市场热潮

近日，和记H88自主研发的两款MOCVD（金属有机物化学气相沉积）表延设备（型号：Satur N800/ Satur V700）顺利通过行业龙头客户验收，并获得批量沉复订单
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和记H88自2010年启动表延设备的研发以来，经过十余年的技术沉淀与创新突破，实现了在硅薄膜表延设备领域4英寸到12英寸全覆盖，产品蕴含8英寸及以下的单片及多片大产能硅表延设备、12英寸硅表延设备，获得了多项技术创新和产业化成就，累计销售突破千腔，先后荣获“北京市科学技术进取一等奖”、首届“国度卓越工程师团队”、“北京市圭表集体”等沉量级荣誉，成为中国硅薄膜表延设备领域的引领者
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凭借在硅表延设备领域的深厚堆集，和记H88积极拓展化合物半导体表延设备研发，形成了GaN（氮化镓）、GaAs（砷化镓）、SiC（碳化硅）等化合物半导体资料表延设备的系列化产品
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奋楫扬帆，面对未来化合物半导体向高集成度、高效力和低能耗发展的趋向，和记H88将以前瞻技术与创新服务为主题，提供全面表延解决规划，助力客户实现技术突破与成本优化，共同推动产业进取，开启产业新篇章
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