和记H88

半导体设备

172318356331bcfe8f6194f9cb

离子注入设备

Implant

  • 等离子刻蚀设备
  • 物理气相沉积设备
  • 化学气相沉积设备
  • 湿法设备
  • 立式炉管设备
  • 离子注入设备
  • 急剧热处置设备
  • 表延设备
联系和记H88 r2
wx
官方公家号
r3
【网站地图】