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Polaris H630
MHM PVD 氮化钛金属硬掩膜物理气相沉积系统
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公司名称：
业务联系人：Polaris H630--胡烁鹏
Polaris H630 MHM PVD 氮化钛金属硬掩膜物理气相沉积系统
Polaris H630 MHM PVD TiN Metal HardMask PVD System
Polaris H630 在IC造备流程后段工艺（BEOL）中利用宽泛。搭配exiTin TTN腔室为尺度PVD腔室，重要沉积高纯度的TiN薄膜，沉点利用于集成电路造作后路的金属硬掩膜工序薄膜，可同时满足较好的厚度均匀性和Rs均匀性。
设备特点
优化的工业设计满足用户对占地尺寸和守护空间的要求
怪异的磁控溅射源和腔室结构设计有效提高靶材利用率
配置矫捷，大产能，低运营成本
产品利用
晶圆尺寸
12 英寸
合用资料
氮化钛
合用工艺
硬掩膜沉积
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