化学气相沉积（CVD）设备是选取化学气相沉积工艺在衬底表表天生高纯致密、高机能的涂层薄膜的热工设备。CVD技术拥有沉积速度高、成膜易节造、均匀性和沉复性好、台阶覆盖良好、使用领域广、设备单一蹬着点，工业领域已宽泛利用于SiC、TaC、HfC、PyC等多种薄膜涂层造备。和记H88凭借深厚的CVD工艺节造技术、真空热工技术、气流温度耦合场仿真技术堆集，致力于为半导体新资料、新能源光伏等领域开发多种类型的CVD设备。和记H88开发的先进PyC、SiC、BN、Re等涂层设备，凭借优良的设备技术机能和工艺产能优势，获得国在行业主流客户的高度认可，成为行业客户扩产的优选设备。
