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半导体设备 Semiconductor
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12英寸立式氮化钛原子层沉积炉
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公司名称：
业务联系人：冯浩东
DEMAX TN302T 12英寸立式氮化钛原子层沉积炉
DEMAX TN302T 12 Inch Vertical TiN ALD Furnace
本产品重要利用于12英寸集成电路（IC）领域原子层氮化钛（TiN）薄膜沉积工艺，可高效沉积低电阻率TiN薄膜，兼备原位自洗濯职能，可批量处置12英寸晶圆。
设备特点
高精度温度场节造技术
先进的颗＝谠旒际
先进的微环境氧含量节造技术
低电阻率薄膜高效沉积技术
优异的膜厚均匀性节造技术
产品利用
晶圆尺寸
12英寸
合用资料
硅
合用工艺
氮化钛栅极原子层沉积
合用领域
集成电路
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