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公司名称:
业务联系人:张敬博
3080B 12英寸单片洗濯设备
3080B 12 Inch Single wafer clean Tool
用于集成电路,先进封装、新兴利用等领域12英寸后段背面洗濯,控片洗濯等工艺,选取多片式传输系统保险高效工艺产出;精密的腔室设计,支持高效的化学品回收效能;可建设伯努利卡盘,有效;ぞг舱;搭载热异丙醇(IPA)干燥技术,实现优良的干燥成效。
设备特点
优良的颗粒与背面刻蚀均匀性节造能力
不变的晶圆传输、定位、翻转能力
晶圆正面;ぜ际
支持多种化学品同时回收,预防交叉传染
高效的化学品回收效能,最低的用户成本
产品利用
晶圆尺寸
12英寸
合用资料
单晶硅、多晶硅、氧化硅、氮化硅、介质膜、金属膜
合用工艺
背面洗濯,背面刻蚀,硅刻蚀,控片洗濯
合用领域
集成电路,先进封装、新兴利用
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