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THEORIS X302P
12英寸立式中温氧化炉
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公司名称：
业务联系人：贾岩
THEORIS X302P 12英寸立式中温氧化炉
THEORIS X302P 12 Inch Vertical Mid-TEMP Oxidation Furnace
本产品重要利用于12英寸集成电路（IC）领域中温（600℃-1000℃）氧化/退火工艺。该机台为立式单腔炉管系统，工艺处置过程实现了高度自动化。系统重要由传输？椤⒐ひ漳？椤⒌缭垂竦炔棵抛槌。
设备特点
先进的颗＝谠旒际
高精度温度场节造技术
先进的微环境氧含量节造技术
急剧升/降温度技术
高产能
产品利用
晶圆尺寸
12 英寸
合用资料
硅
合用工艺
中温氧化、退火
合用领域
集成电路
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