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公司名称：
业务联系人：王岩
3080D 12英寸单片洗濯设备
3080D 12 Inch Single Wafer Clean Tool
用于集成电路，先进封装、新兴利用等领域12英寸后段洗濯工艺，支持正背面多种化学品利用 。选取多片式传输系统保险高效工艺产出；精密的腔室及卡盘设计支持超高的化学品回收效能；搭载热异丙醇（IPA）干燥技术，实现优良的干燥成效 。
设备特点
精密的腔室微环境节造能力
不变的供液系统
支持晶圆正背面多种化学品工艺
高效的多种化学品回收效能
搭配高温IPA干燥技术适配先进工艺
产品利用
晶圆尺寸
12英寸
合用资料
单晶硅、多晶硅、氧化硅、氮化硅、介质膜、金属膜
合用工艺
Cu/Al 造程刻蚀后洗濯，硅刻蚀，研磨后残留物去除，膜层去除
合用领域
集成电路，先进封装、新兴利用
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