DEMAX CON302X 12英寸立式低介电常数原子层沉积炉
DEMAX CON302X 12 Inch Vertical Low-K ALD Furnace
本产品重要利用于12英寸集成电路（IC）领域原子层低介电常数（Low K）薄膜侧墙沉积工艺，可能显著降低侧墙薄膜介电常数的同时降低刻蚀速度，矫捷可调的介电常数和刻蚀速度有利于后续工艺整合；该产品可实现全自动工艺运行并兼具原位自洗濯职能，有效节造微幼颗粒、降低守护功夫以提高设备利用率；选取高精度温度场节造、先进的气流场节造和优异的微环境节造技术，可批量处置12英寸晶圆以实现高产能出产。
- 设备特点
-
- 产品利用
-
- 晶圆尺寸
- 合用资料
- 合用工艺
- 合用领域
