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半导体设备 Semiconductor
NMC 508系列
8英寸等离子体金属刻蚀机
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公司名称：
业务联系人：成晓艳
NMC 508系列 8英寸等离子体金属刻蚀机
NMC 508系列 Metal Etcher
金属刻蚀机重要用于6/8英寸金属干法刻蚀工艺。该机台为多腔室集群设备，可能进行全自动并行工艺处置。产品通过独创设计能够实现超长MTBC。Al、W等刻蚀使用同种配置，有效节俭守护成本。宽泛利用于8寸IC、功率器件、化合物半导体等领域。
设备特点
高密度ICP等离子体源设计，高刻蚀速度
优良的描摹节造能力
怪异的量产模式，凸起的量产不变性，更高的MTBC
软件量身定造，具备急剧更新能力
产品利用
晶圆尺寸
6/8英寸
合用领域
集成电路IC，功率器件，化合物半导体，新兴利用
合用资料
铝、钨、氮化钛、ITO等
合用工艺
inter metal/top metal/W etch back等
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