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CLP1000R6-2/ZM
沉稀土PVD陆续镀膜设备
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公司名称：
CLP1000R6-2/ZM 沉稀土PVD陆续镀膜设备
CLP1000R6-2/ZM Heavy rare earth PVD continuous coating equipment
设备选取真空镀膜技术，针对沉稀土晶界扩散工艺中沉稀土成膜工序进行专门设计，该设备拥有通例真空镀膜技术的沉积膜层均匀、致密、附着力强等特点，还拥有高稼动率、大产能蹬着点 。
设备特点
选取卧式设计，整个操作过程自动运行
选取托盘支持的工件摆放方式，能够节俭装夹功夫和节约人为，降低劳动强度和运行成本
选用新型专业定造的高利用率旋转阴极，靶材溅出率可达到85%~90%
旋转靶材占有更长的使用功夫，大大耽搁了设备的换靶周期/削减破空周期
优良的靶筒冷却系统使旋转阴极能够接受更高的功率密度
技术指标
镀层厚度均匀性
≤±5%
设备压升率（镀膜区）
≤0.6Pa/h（空载、室温）
冷却效能
20min内出料，工件表表温度≤80℃
靶材溅出率
靶材为10mm厚时，靶材溅出率≥82%
阴极数量
4套高利用率旋转阴极
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