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VVK50.55
陆续渗硅炉
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公司名称：
VVK50.55 陆续渗硅炉
VVK50.55 Continuous silicon infiltration furnace
陆续渗硅炉用于碳碳资料的高温渗硅处置工艺。设备由加热腔室、过渡腔室、冷却腔室、物料传输系统、快冷系统、真空系统、气路系统、节造系统等组成。
设备特点
陆续出产
单元产品能耗低
产品一致性好
技术指标
炉内工作区截面尺寸
500×550mm（宽×高）
工作温度
1700℃
冷态极限真空度
10Pa
热态极限真空度
80Pa
压升率
10 Pa/h
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