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Polaris 系列
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业务联系人：罗建恒
Polaris 系列 通用物理气相沉积系统
Polaris 系列 PVD System
Polaris 系列PVD金属薄膜物理气相沉积系统重要由真空传输平台，去气腔室，预清洁腔室和工艺腔室组成，设备选取Cluster Tool架构，可配置多个工艺腔室、预洗濯腔室和去气腔室，适合封装领域薄膜造备大规模出产。Polaris 系列PVD为全自动大产能设备，拥有wafer自动传输，工艺去气，晶片表表预清洁、薄膜沉积齐全自动化等特点。
设备特点
怪异的磁控溅射源和腔室结构的设计有效提高靶材利用率
矫捷的腔室配置
针对先进封装领域优化、不变的传输系统，兼容玻璃片、翘曲片、键合片等多种类型基片传输
不变并且低的Rc阐发，优良的颗粒和应力节造能力
优化的工艺流程带来大产能阐发，低运营成本
产品利用
晶圆尺寸
6、8、12 英寸
合用资料
铜、钛、氮化钛、钽、氮化钽、钨化钛、金、铝等
合用工艺
电极、先进封装中的UBM/RDL
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