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业务联系人：李强
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iTops i233 PVD ITO Sputter System
iTops i233重要用于4/6/8英寸ITO沉积工艺。系统由传输？椤⒐ひ漳？椤⒋邮羯璞敢约暗缭垂褡槌。该设备拥有占地面积幼，结构单一，操作矫捷，维建方便，运营成本低蹬着势。
设备特点
选取托盘大局，可兼容2/4/6英寸wafer
低危险溅射工艺
占地面积幼，结构单一，操作矫捷，维建方便
设备不变，运营成本低
产品利用
晶圆尺寸
2、4、6 英寸
合用资料
铟锡氧化物
合用工艺
ITO 电流扩大层
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