Taurus i200PES EPEE及Taurus系列等离子化学气相沉积系统
Taurus i200PES EPEE and Taurus Series PECVD System
合用于4~8寸IC、MEMS、Power、化合物、LED、科研及新兴等领域，支持Si、SiC、石英、蓝宝石GaAs及InP基等分歧衬底的Si02、SiNx、SiON、BPSG、 PSG、PETEOS、BPTEOS等多种薄膜沉积工艺，设备支持洗濯终点检测，传输平台、腔室类型及腔室数量可凭据客户现实需要建设，具备成本低、机能优、均匀性优、颗粒度低的特点，可满足分歧器件工艺对沉积速度、膜厚、应力、折射率及侵蚀速度等工艺指标的要求，工艺窗口大，兼具量产不变性和研发矫捷性的优势
